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Halbleiter: Neues Verfahren überwindet Grenzen der Lithographie

Ein chinesisch-amerikanisches Forschungsteam hat ein neuartiges Verfahren zur Halbleiterherstellung vorgestellt, das die Entwicklung leistungsfähiger optoelektronischer Bauteile grundlegend verändern könnte. (Weiter lesen)

Halbleiter: Neues Verfahren überwindet Grenzen der Lithographie

Ein chinesisch-amerikanisches Forschungsteam hat ein neuartiges Verfahren zur Halbleiterherstellung vorgestellt, das die Entwicklung leistungsfähiger optoelektronischer Bauteile grundlegend verändern könnte. (Weiter lesen)